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铟锡氧化物薄膜的回收方法以及基板的回收方法  
 【申请号】  CN201010513266.8  【申请日】  2010-10-12
 【公开号】  CN102031375A  【公开日】  2011-04-27
 【申请人】  友达光电股份有限公司  【地址】  中国台湾新竹市
 【共同申请人】  
 【发明人】  郑钧文;陈豊涵;赖英杰
 【国际申请】    【国际公布】  
 【进入国家日期】  
 【专利代理机构】  北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006  【代理人】  梁挥;鲍俊萍
 【分案原申请号】  
 【国省代码】  71
 【摘要】  一种铟锡氧化物薄膜的回收方法。首先,提供一待回收物,此待回收物具有一铟锡氧化物薄膜,接着,使一碱液与铟锡氧化物薄膜接触,以使铟锡氧化物薄膜自待回收物剥离并混合于碱液中,其中碱液的成分包括氢氧化钾及/或氢氧化钠。之后,收集剥离的铟锡氧化物薄膜与碱液的混合物,并自铟锡氧化物薄膜与碱液的混合物中过滤而取得含铟的粉末。本发明另提供一种基板的回收方法。本发明采用碱液与铟锡氧化物薄膜接触,使铟锡氧化物薄膜自待回收物上剥离而混合于碱液中,以达到铟锡氧化物薄膜或基板回收的目的。
 【主权项】  一种铟锡氧化物薄膜的回收方法,其特征在于,包括:提供一待回收物,该待回收物具有一铟锡氧化物薄膜;使一碱液与该铟锡氧化物薄膜接触,以使该铟锡氧化物薄膜自该待回收物剥离并混合于该碱液中,其中该碱液的成分包括氢氧化钾及/或氢氧化钠;以及收集剥离的该铟锡氧化物薄膜与该碱液的混合物,并自该铟锡氧化物薄膜与该碱液的混合物中过滤而取得含铟的粉末。
 【页数】  13
 【主分类号】  C22B7/00
 【专利分类号】  C22B7/00;C22B58/00
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