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亲水性薄膜以及使用该亲水性薄膜的构件和结构物  
 【申请号】  CN201410145783.2  【申请日】  2009-09-16
 【公开号】  CN103950253A  【公开日】  2014-07-30
 【申请人】  株式会社东芝;东芝高新材料公司  【地址】  日本东京
 【共同申请人】  
 【发明人】  中野佳代;佐藤光;白川康博;日下隆夫;笠松伸矢
 【国际申请】    【国际公布】  
 【进入国家日期】  
 【专利代理机构】  上海专利商标事务所有限公司 31100  【代理人】  金明花
 【分案原申请号】  200980136969.9 2009.09.16
 【国省代码】  JP
 【摘要】  亲水性薄膜包括基材薄膜以及至少存在于基材薄膜的表面的微粒。微粒由选自氧化钨微粒和氧化钨复合材料微粒的至少1种构成。微粒的平均粒径在1nm以上200nm以下的范围内,且微粒的长宽比在1以上3.5以下的范围内。
 【主权项】  一种亲水性薄膜,其特征在于,包括:基材薄膜,在所述基材薄膜上涂布包含树脂化合物的溶液而形成,厚度在10~200nm的范围内的基底层,以及形成于基底层上,含有以0.001质量%以上50质量%以下的范围包含过渡金属元素的氧化钨复合材料微粒的表面层;所述氧化钨复合材料微粒的平均粒径在1nm以上200nm以下的范围内,且所述微粒的长宽比在1以上3.5以下的范围内,所述表面层的厚度在2nm以上50μm以下的范围内,将基准长度设为100μm时的算数平均粗糙度Ra在1~1000nm的范围内,显示亲水性以及在可见光的照射下的光催化性能。
 【页数】  18
 【主分类号】  B32B27/06
 【专利分类号】  B32B27/06;C09D7/12;C09D5/00;C09D5/14;B01J31/34
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