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用于快中子成像的方法及探测系统  
 【申请号】  CN201611224684.9  【申请日】  2016-12-27
 【公开号】  CN106610510A  【公开日】  2017-05-03
 【申请人】  同方威视技术股份有限公司  【地址】  100084 北京市海淀区双清路同方大厦A座2层
 【共同申请人】  
 【发明人】  李玉兰;付逸冬;李元景;于海军;常建平
 【国际申请】    【国际公布】  
 【进入国家日期】  
 【专利代理机构】  北京律智知识产权代理有限公司 11438  【代理人】  姜怡;袁礼君
 【分案原申请号】  
 【国省代码】  11
 【摘要】  本申请公开一种用于快中子成像的方法及探测系统。该方法包括:使快中子入射到探测器中,从而快中子与探测器中1H原子核发生一次弹性散射,其中一次弹性散射产生散射中子和反冲质子,散射中子在探测器中发生二次作用,反冲质子在探测器灵敏介质中产生电子和阳离子,探测器包括时间投影室;获取散射中子的信息;获取电子在电场作用下到达预定位置的响应信号;通过所述响应信号,获取所述电子的漂移时间、坐标以及数量;以及通过所述散射中子的信息、所述电子的漂移时间、坐标以及数量,进行快中子的成像。本申请公开的用于快中子成像的方法,能够提高特殊核材料监测中对快中子监测的精度。
 【主权项】  一种用于快中子成像的方法,其特征在于,包括:使快中子入射到探测器中,从而所述快中子与所述探测器中1H原子核发生一次弹性散射,其中所述一次弹性散射产生散射中子和反冲质子,所述散射中子在所述探测器中发生二次作用,所述反冲质子在所述探测器灵敏介质中产生电子和阳离子,所述探测器包括时间投影室;获取所述电子在电场作用下到达预定位置的响应信号;通过所述响应信号,获取所述电子的漂移时间、坐标以及数量;获取所述散射中子的信息;以及通过所述散射中子的信息、所述电子的所述漂移时间、所述坐标以及所述数量,进行所述快中子的成像。
 【页数】  19
 【主分类号】  G01V5/00
 【专利分类号】  G01V5/00
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