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金属氧化物分散体  
 【申请号】  CN02825551.8  【申请日】  2002-12-16
 【公开号】  CN1606481  【公开日】  2005-04-13
 【申请人】  旭化成株式会社  【地址】  日本大阪府
 【共同申请人】  
 【发明人】  丸山睦弘
 【国际申请】  PCT/JP2002/013141 2002-12-16  【国际公布】  WO2003/051562 日 2003-06-26
 【进入国家日期】  
 【专利代理机构】  北京市中咨律师事务所  【代理人】  刘金辉;林柏楠
 【分案原申请号】  
 【国省代码】  JP
 【摘要】  本发明涉及一种金属氧化物分散体,包含分散介质和分散于其中的粒径小于200nm的金属氧化物且可以通过低温加热在基材上形成金属薄膜。当将该分散体施于基材上并随后加热时,形成金属薄膜。
 【主权项】  1.一种包含粒径小于200nm的金属氧化物和分散介质的金属氧化物 分散体,其中该金属氧化物分散介质包含多元醇和/或聚醚化合物。
 【页数】  31
 【主分类号】  B22F9/00
 【专利分类号】  B22F9/00
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