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用于制造十字电路器件的方法  
 【申请号】  CN200680019823.2  【申请日】  2006-05-24
 【公开号】  CN101189720  【公开日】  2008-05-28
 【申请人】  NXP股份有限公司  【地址】  荷兰艾恩德霍芬
 【共同申请人】  
 【发明人】  彼得·B·L·迈耶
 【国际申请】  2006-05-24 PCT/IB2006/051660  【国际公布】  2006-12-14 WO2006/131838 英
 【进入国家日期】  
 【专利代理机构】  中科专利商标代理有限责任公司  【代理人】  宋焰琴
 【分案原申请号】  
 【国省代码】  NL
 【摘要】  一种用于在衬底(1)上制造十字电路的方法,所述十字电路包括 第一线(10)的第一格子和第二线(17)的第二格子,第一线(10)沿 第一方向延伸,第二线沿第二方向延伸,第一方向和第二方向相对于彼 此配置为形成单个二维线格子,每一个第一线通过位于第一和第二线重 叠的位置处的中间层(14)与每一个第二线隔离;所述方法包括:在衬 底上沉积可压印层(2);通过模具(3)将二维格子掩模(5)压印到可 压印层(2)上;沿第一方向将第一材料(8)定向沉积到格子掩模上; 以及沿第二方向将第二材料(15)定向沉积到格子掩模上,在第一和第 二材料的定向沉积期间,所述格子掩模作为遮蔽掩模。
 【主权项】  1.一种用于在衬底(1)上制造十字电路器件的方法,所述十字电 路器件包括第一线(10)的第一格子和第二线(17)的第二格子,第一 线(10)沿第一方向延伸,第二线(17)沿第二方向延伸,第一线(10) 的第一方向和第二线(17)的第二方向被相对于彼此配置,从而形成二 维线格子,每一个第一线(10)通过位于第一线(10)和第二线(17) 重叠的位置处的中间层(14)与每一个第二线(17)隔离; 所述方法包括在衬底(1)上沉积可压印层(2)的步骤, 其特征在于: -通过模具(3)将二维格子掩模(5)压印到可压印层(2)上, 所述格子掩模(5)包括多个柱子(7)和在相邻柱子之间插入的开口(12), 并且所述格子掩模(5)与二维线格子互补; -沿实质上第一方向将第一材料(8)定向沉积到二维格子掩模(5) 上;以及 -沿实质上第二方向将第二材料(15)定向沉积到二维格子掩模(5) 上, -在第一和第二材料(8;15)的定向沉积期间,所述二维格子掩 模(5)作为遮蔽掩模。
 【页数】  24
 【主分类号】  H01L27/10
 【专利分类号】  H01L27/10
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