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除涂层的方法、制备再生镁合金的方法和再生涂料的方法  
 【申请号】  CN02157102.3  【申请日】  2002-12-12
 【公开号】  CN1465747  【公开日】  2004-01-07
 【申请人】  富士通株式会社  【地址】  日本神奈川
 【共同申请人】  
 【发明人】  西井耕太;木村浩一
 【国际申请】    【国际公布】  
 【进入国家日期】  
 【专利代理机构】  中国国际贸易促进委员会专利商标事务所  【代理人】  孙爱
 【分案原申请号】  
 【国省代码】  JP
 【摘要】  提供一种从带涂层的Mg合金产品中脱除涂层的方法。本方法包括将带涂层的镁合金产品浸渍到第一碱性溶液的第一处理步骤;和将已经第一处理步骤的镁合金产品浸渍到第二碱性溶液或酸溶液的第二处理步骤,第二碱性溶液不同于第一碱性溶液。
 【主权项】  1.一种从带涂层的Mg合金产品中脱除涂层的方法,该方法包括: 将带涂层的镁合金产品浸渍到第一碱性溶液的第一处理步骤;和 将已经第一处理步骤的镁合金产品浸渍到第二碱性溶液或酸溶液的第二处理步骤,第二碱性溶液不同于第一碱性溶液。
 【页数】  24
 【主分类号】  C23G1/14
 【专利分类号】  C23G1/14;C23G1/22;C22B7/00
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